アイ・シイ・エスの設備一覧
真空熱処理炉
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
V1 |
一室式横型真空炉 |
5401200 |
V-5 |
三室式横型真空炉 |
4501150 |
V-6 |
油槽付横型真空炉 |
4501150 |
V-7 |
二室式横型真空炉 |
4501150 |
V-8 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-9 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-10 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-101 |
一室式横型真空炉 |
4501050 |
V-102 |
三室式横型真空炉 |
4501050 |
V-103 |
三室式油槽付横型真空炉 |
4501050 |
V-104 |
一室式横型真空炉 |
4501050 |
V-105 |
三室式横型真空炉 |
4501050 |
V-107 |
一室式横型真空炉 |
4501050 |
V-402 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-403 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-404 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-405 |
一室式横型真空炉 |
4501150 |
V-406 |
一室式横型真空炉 |
5401280 |
V-407 |
一室式横型真空炉 |
5401280 |
雰囲気熱処理炉
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
Q-1 |
縦型雰囲気炉 |
8001100 |
T-1 |
減圧式横型雰囲気炉 |
150750 |
T-5 |
減圧式横型雰囲気炉 |
150850 |
T-7 |
低温焼戻炉 |
100600 |
T-8 |
真空パージ雰囲気炉 |
150850 |
T-105 |
低温焼戻炉 |
100550 |
T-106 |
真空パージ雰囲気炉 |
150850 |
T-107 |
真空パージ雰囲気炉 |
150850 |
T-108 |
真空パージ雰囲気炉 |
150850 |
T-109 |
低温焼戻炉 |
150550 |
A-103 |
横型雰囲気炉 |
1501150 |
A-104 |
横型雰囲気炉 |
1501150 |
サブゼロ装置
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
R-1 |
サブゼロ |
-200050 |
R-2 |
サブゼロ |
-150RT |
コンベア炉
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
C-102 |
連続式雰囲気炉 |
8501150 |
C-105 |
連続式雰囲気炉 |
7501150 |
C-107 |
連続式雰囲気炉 |
150900 |
C-1 |
連続式雰囲気炉 |
8001150 |
C-401 |
連続式雰囲気炉 |
5001150 |
C-403 |
連続式雰囲気炉 |
5001150 |
溶射設備
- HVOF
- High Velocity Oxygen-Fuel Thermal Spray
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
S-102 |
プラズマ溶射設備 |
|
S-103 |
フレーム溶射設備 |
|
S-104 |
HVOF
高速フレーム溶射設備
|
|
S-105 |
大気プラズマ溶射設備 |
|
大気炉
炉番 |
炉の種類 |
温度範囲 [℃] |
T-401 |
流気式焼鈍炉 |
150750 |
表面コーティング装置
- PVD
- Physical Vapor Deposition
- CVD
- Chemical Vapor Deposition
- PN
- Plasma Nitriding
- HiPIMS
- High-Power Impulse Magnetron Sputtering
炉番 |
炉の種類 |
コーティング種類 |
I-101 |
イオンプレーティング装置 |
PVD |
I-102 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-103 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-104 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-105 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-106 |
イオンプレーティング装置 |
PN, PVD, HiPIMS |
I-107 |
イオンプレーティング装置 |
PN, PVD |
I-108 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-109 |
イオンプレーティング装置 |
PVD |
I-110 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
I-111 |
イオンプレーティング装置 |
PVD, CVD |
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